Evaluation of Alternative Atomistic Models for the Incipient Growth of ZnO by Atomic Layer Deposition - Aix-Marseille Université
Article Dans Une Revue Journal of Electronic Materials Année : 2017

Evaluation of Alternative Atomistic Models for the Incipient Growth of ZnO by Atomic Layer Deposition

Toufik Ouled
  • Fonction : Auteur
Sabine Lay
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 739161
  • IdHAL : sabine-lay
Dillon Fong
  • Fonction : Auteur
Gianluca Ciatto
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01705058 , version 1 (09-02-2018)

Identifiants

Citer

Manh-Hung Chu, Liang Tian, Ahmad Chaker, Evgenii Skopin, Valentina Cantelli, et al.. Evaluation of Alternative Atomistic Models for the Incipient Growth of ZnO by Atomic Layer Deposition. Journal of Electronic Materials, 2017, 46 (6), pp.3512 - 3517. ⟨10.1007/s11664-017-5448-2⟩. ⟨hal-01705058⟩
167 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

More