Article Dans Une Revue
Applied Physics Letters
Année : 2009
Christophe Girardeaux : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://amu.hal.science/hal-02044925
Soumis le : jeudi 21 février 2019-16:58:13
Dernière modification le : lundi 10 juin 2024-16:58:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02044925 , version 1
Citer
A. Portavoce, B. Lalmi, G. Tréglia, Christophe Girardeaux, Dominique Mangelinck, et al.. Subnanometric Si film reactive diffusion on Ni. Applied Physics Letters, 2009, 95 (2), pp.023111. ⟨hal-02044925⟩
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