Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2010
Alain Portavoce : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://amu.hal.science/hal-02386115
Soumis le : vendredi 29 novembre 2019-10:52:48
Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05
Citer
I. Blum, A. Portavoce, D. Mangelinck, R. Daineche, K. Hoummada, et al.. Measurement of As diffusivity in Ni2Si thin films. Microelectronic Engineering, 2010, 87 (3), pp.263-266. ⟨10.1016/j.mee.2009.05.020⟩. ⟨hal-02386115⟩
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