Article Dans Une Revue
Applied Physics Letters
Année : 2009
Alain Portavoce : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://amu.hal.science/hal-02386120
Soumis le : vendredi 29 novembre 2019-10:55:09
Dernière modification le : lundi 10 juin 2024-16:58:03
Citer
A. Portavoce, B. Lalmi, G. Tréglia, C. Girardeaux, D. Mangelinck, et al.. Subnanometric Si film reactive diffusion on Ni. Applied Physics Letters, 2009, 95 (2), pp.023111. ⟨10.1063/1.3177187⟩. ⟨hal-02386120⟩
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