Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition and characterization of TiO2 antireflection coatings for monocrystalline silicon solar cells - Aix-Marseille Université
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition and characterization of TiO2 antireflection coatings for monocrystalline silicon solar cells

Domaines

Physique [physics]

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https://amu.hal.science/hal-01758774

Soumis le : mercredi 4 avril 2018-17:37:39

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Dates et versions

hal-01758774 , version 1 (04-04-2018)

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Citer

D. Hocine, M. Pasquinelli, Ludovic Escoubas, P. Torchio, A. Moreau, et al.. Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition and characterization of TiO2 antireflection coatings for monocrystalline silicon solar cells. 14th International Conference on Harmonics and Quality of Power (ICHQP'2010), Sep 2010, Ischia, France. ⟨10.1109/ICCEP.2011.6036368⟩. ⟨hal-01758774⟩

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