Mn Diffusion and Reactive Diffusion in Ge: Spintronic Applications - Aix-Marseille Université
Article Dans Une Revue Defect and Diffusion Forum Année : 2015

Mn Diffusion and Reactive Diffusion in Ge: Spintronic Applications

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Dates et versions

hal-02044836 , version 1 (21-02-2019)

Identifiants

Citer

Alain Portavoce, Omar Abbes, Sylvain Bertaina, Yauheni Rudzevich, Lee Chow, et al.. Mn Diffusion and Reactive Diffusion in Ge: Spintronic Applications. Defect and Diffusion Forum, 2015, 363, pp.56-61. ⟨10.4028/www.scientific.net/DDF.363.56⟩. ⟨hal-02044836⟩
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