Transition from anomalous kinetics toward Fickian diffusion for Si dissolution into amorphous Ge - Aix-Marseille Université Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 2008

Transition from anomalous kinetics toward Fickian diffusion for Si dissolution into amorphous Ge

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02044980 , version 1 (21-02-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02044980 , version 1

Citer

Zoltan Balogh, Zoltán Erdélyi, Dezső Beke, Gábor Langer, Attila Csik, et al.. Transition from anomalous kinetics toward Fickian diffusion for Si dissolution into amorphous Ge. Applied Physics Letters, 2008, 92 (14), pp.143104. ⟨hal-02044980⟩
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